[发明专利]镀膜装置无效

专利信息
申请号: 201010521455.X 申请日: 2010-10-27
公开(公告)号: CN102453878A 公开(公告)日: 2012-05-16
发明(设计)人: 王仲培 申请(专利权)人: 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518109 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 一种镀膜装置,其包括一个镀膜腔体,及一个同心料架。所述同心料架设置于所述镀膜腔体内部,所述同心料架可以绕其自身的中心轴旋转。所述同心料架具有一个内圈料架,及一个围绕所述内圈料架且与所述内圈料架相连接的外圈料架。所述内圈料架的中央区域设置有至少一个柱状的内靶座,所述外圈料架的外围设置有多个柱状的外靶座,所述内靶座与所述外靶座均用于设置镀膜靶材。所述镀膜装置采用同心设置的内圈料架与外圈料架,且分别在内圈料架的中央区域及外圈料架的外围设置柱状的靶座,可有效地降低设置于不同靶座的靶材之间相互干扰,保证镀膜质量,且有利于控制靶材,提高靶材的利用率。
搜索关键词: 镀膜 装置
【主权项】:
一种镀膜装置,其包括:一个镀膜腔体;及一个同心料架,所述同心料架设置于所述镀膜腔体内部,所述同心料架可以绕其自身的中心轴旋转;其特征在于:所述同心料架具有一个内圈料架,及一个围绕所述内圈料架且与所述内圈料架相连接的外圈料架;所述内圈料架的中央区域设置有至少一个柱状的内靶座,所述外圈料架的外围设置有多个柱状的外靶座,所述内靶座与所述外靶座均用于设置镀膜靶材。
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