[发明专利]光罩及其制造方法有效
| 申请号： | 201010522497.5 | 申请日： | 2007-02-06 |
| 公开（公告）号： | CN101976018A | 公开（公告）日： | 2011-02-16 |
| 发明（设计）人： | 熊泽雅人;福井达雄 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F1/14 | 分类号： | G03F1/14 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人： | 寿宁 |
| 地址： | 日本东京千代*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种具有图案区域的光罩(M10)，其特征在于，图案区域包括沿着第1方向而配置于奇数号的多个奇数列图案区域(M101)，以及沿着第1方向而配置于偶数号的多个偶数列图案区域(M102)，至少一对邻接的奇数列图案区域(M101)与偶数列图案区域(M102)在第1方向的端部具有共通区域(C1～C5)，该共通区域(C1～C5)中具有相同图案。图案区域还包括第1基准标记(m101)及第2基准标记(m102)；第1基准标记(m101)与至少1个奇数列图案区域(M101)或至少1个偶数列图案区域(M102)具有第1位置关系；第2基准标记(m102)与至少1个奇数列图案区域(M101)或至少1个偶数列图案区域(M102)具有第2位置关系。 | ||
| 搜索关键词： | 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种具有图案区域的光罩，其特征在于，上述图案区域包括沿着第1方向而配置于奇数号的多个奇数列图案区域，以及沿着上述第1方向而配置于偶数号的多个偶数列图案区域，至少一对邻接的上述奇数列图案区域与上述偶数列图案区域在上述第1方向的端部具有共通区域，该共通区域中具有相同图案，上述图案区域还包括第1基准标记及第2基准标记；上述第1基准标记与至少1个上述奇数列图案区域或至少1个上述偶数列图案区域具有第1位置关系；上述第2基准标记与至少1个上述奇数列图案区域或至少1个上述偶数列图案区域具有第2位置关系。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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