[发明专利]太阳能级多晶硅制备中的真空固态挥发除磷的方法有效

专利信息
申请号: 201010528342.2 申请日: 2010-11-02
公开(公告)号: CN102452652B 公开(公告)日: 2012-05-16
发明(设计)人: 史珺;程素玲 申请(专利权)人: 上海普罗新能源有限公司
主分类号: C01B33/037 分类号: C01B33/037
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 高月红
地址: 201300 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种太阳能级多晶硅制备中的真空固态挥发除磷的方法,包括步骤:1)采用酸洗的方法,去除硅颗粒表面氧化层和晶界上的金属杂质,然后水洗,干燥;2)干燥后的硅颗粒中加入纳米级二氧化硅粉,混合后压片;3)将压片后的混合物在真空下进行加热保温。本发明无需将硅熔化,能耗低,并且操作容易。
搜索关键词: 太阳 能级 多晶 制备 中的 真空 固态 挥发 方法
【主权项】:
一种太阳能级多晶硅制备中的真空固态挥发除磷的方法,包括步骤:1)采用酸洗的方法,去除硅颗粒表面氧化层和晶界上的金属杂质,然后水洗,干燥;2)干燥后的硅颗粒中加入纳米级二氧化硅粉,混合后压片;3)将压片后的混合物在真空下进行加热保温,所述加热温度为800~1100℃。
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