[发明专利]基板检查装置及其测定运用系统无效
申请号: | 201010533664.6 | 申请日: | 2010-10-29 |
公开(公告)号: | CN102062737A | 公开(公告)日: | 2011-05-18 |
发明(设计)人: | 饭塚学;常盘弘二 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立高科技 |
主分类号: | G01N21/88 | 分类号: | G01N21/88;G01N21/956 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
地址: | 日本东京港区*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 基板检查装置及其测定运用系统,使基板整个表面的检查与原本相比显示基板内的局部检查且相对于生产线上的流动的玻璃不会发生延迟。各测定模式中,在使基板从上游作业线向下游作业线依次移动的流动的生产线上,对每个玻璃基板进行扫描区域大小的测定。显示画面显示每次扫描及每块基板的两个系统的检查结果。在显示画面的例如右侧的区域,显示通过光学系统而得的基板的一次扫描的检查结果,即,局部的检查结果,且相对于生产线上的流动的玻璃不会发生延迟。在画面左侧的区域并列地显示相当于一块基板的检查结果。相当于一块基板的检查结果是相当于画面右侧所显示的每个基板检查结果的结合,并将基板中的异物/缺陷的位置坐标作为映射而显示。 | ||
搜索关键词: | 检查 装置 及其 测定 运用 系统 | ||
【主权项】:
一种基板检查装置的测定运用系统,一面使基板从上游作业线向下游作业线依次移动,一面使包括投光系统及光接收系统的光学系统向与移动过程中的基板正交的方向移动,照射检查光并接收来自所述基板的反射光或散射光,根据所接收的来自所述基板的反射光或散射光来检查所述基板的缺陷,并按照预先设定的测定模式来显示所述缺陷,其特征在于所述测定模式包括:正常测定模式,对所述依次移动的所述玻璃基板连续执行如下处理,即,以使移动所述光学系统来对所述基板扫描一次的测定的测定区域针对每个基板而不重叠的方式,一面使所述光学系统移位一面扫描相当于一块基板的测定区域;一次映射测定模式,在如下时间点结束检查,即,以使移动所述光学系统来对所述基板扫描一次的测定的测定区域针对所述每个基板而不重叠的方式,一面使所述光学系统移位一面扫描相当于所述一块基板的测定区域时的时间点;以及排程测定模式,在指定的时刻执行所述一次映射测定模式的检查;将各所述测定模式中每次扫描及所述每个基板中的两个系统的检查结果显示于显示画面。
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