[发明专利]一种清洗装置及清洗方法无效
申请号: | 201010534754.7 | 申请日: | 2010-11-03 |
公开(公告)号: | CN102463227A | 公开(公告)日: | 2012-05-23 |
发明(设计)人: | 刘洋;闫启亮;王宏智;单福源 | 申请(专利权)人: | 北京中电科电子装备有限公司 |
主分类号: | B08B3/02 | 分类号: | B08B3/02;B08B13/00 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 许静 |
地址: | 100176 北京市北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供了一种清洗装置和清洗方法,用于清洗晶圆,该装置包括:晶圆吸片台部,用于吸附晶圆;喷头部,位于所述晶圆吸片台部的上方,包括:至少一个第一接收部,用于接收从第一通道输入的清洗液;至少一个第二接收部,用于接收从第二通道输入的压缩气体;混合部,用于将所述输入的清洗液和压缩气体相混合后喷出,以清洗所述晶圆吸片台部吸附的晶圆。利用所述技术方案,借助压缩气体的作用,得与压缩气体混合后的清洗液在喷出时具有更高的喷出速率,从而能够更好的清洗划切后的晶圆表面及划切槽内残余的切屑微粒。 | ||
搜索关键词: | 一种 清洗 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种清洗装置,用于清洗晶圆,其特征在于,包括:晶圆吸片台部,用于吸附晶圆;喷头部,位于所述晶圆吸片台部的上方,包括:至少一个第一接收部,用于接收从第一通道输入的清洗液;至少一个第二接收部,用于接收从第二通道输入的压缩气体;混合部,用于将所述输入的清洗液和压缩气体相混合后喷出,以清洗所述晶圆吸片台部吸附的晶圆。
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