[发明专利]曝光装置和器件制造方法有效
申请号: | 201010540125.5 | 申请日: | 2010-11-11 |
公开(公告)号: | CN102063017A | 公开(公告)日: | 2011-05-18 |
发明(设计)人: | 平野真一 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F7/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 李颖 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及曝光装置和器件制造方法。一种曝光装置,包括:基板台架,可从第一位置移动到第二位置;传输臂,可从第三位置移动到第二位置;升降部件,在第二位置处将基板传送到臂;以及控制器。为了避免基板和臂之间的碰撞以及升降部件和基板之间的碰撞,控制器在升降操作结束时判断台架是否到达从第二位置向前侧偏移预定间隔的第四位置。如果控制器判断台架没有到达第四位置,那么控制器控制台架和臂的移动以及升降部件的升降,使得臂在升降操作结束之前开始向第二位置移动。 | ||
搜索关键词: | 曝光 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种用于将基板曝光的曝光装置,该装置包括:基板台架,所述基板台架保持基板并能够沿从在X‑Y‑Z坐标系中定义的X‑Y面上的第一位置到所述X‑Y面上的第二位置的第一路线移动;传输臂,所述传输臂保持基板并能够沿从所述X‑Y面上的第三位置到第二位置的第二路线移动;升降部件,所述升降部件位于所述基板台架上并且能够为了在第二位置处向所述传输臂传送基板而沿在X‑Y‑Z坐标系中定义的Z轴方向上/下移动;以及控制器,其中,使a为所述X‑Y面中的所述基板台架和所述传输臂之间的预定间隔,所述预定间隔是为了避免由正在进行升降操作的所述升降部件保持的基板和所述传输臂之间的碰撞以及正在进行升降操作的所述升降部件和由所述传输臂保持的基板之间的碰撞而所需的,在为了向所述传输臂传送基板而开始的所述升降部件的升降操作结束时的时间点处,所述控制器判断已开始向第二位置移动的所述基板台架是否到达从第二位置沿第一路线向前侧偏移预定间隔a的第四位置,并且,如果所述控制器判断所述基板台架没有到达第四位置,那么所述控制器控制所述基板台架的移动、所述升降部件的升降以及所述传输臂的移动,使得所述传输臂在所述升降部件的升降操作结束之前开始向第二位置移动。
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