[发明专利]光学材料的内部状态的检查方法以及光学元件的制造方法无效

专利信息
申请号: 201010541865.0 申请日: 2010-11-01
公开(公告)号: CN102053094A 公开(公告)日: 2011-05-11
发明(设计)人: 金光康中;梅木修 申请(专利权)人: 株式会社小原
主分类号: G01N21/958 分类号: G01N21/958
代理公司: 广州三环专利代理有限公司 44202 代理人: 郝传鑫
地址: 日本神奈川县相模原*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的课题在于提供一种能够使用长度短的检查系统且确保广视野、能够正确检查光学材料内部状态的检查方法、以及在短时间内能够制造高品质光学元件的光学元件的制造方法。本发明所涉及的对光学材料OM的内部状态进行检查的检查方法,包括:将来自光源21的漫射光照射到光学材料OM上,基于透射该光学材料OM的透射光,来检查光学材料OM的内部状态的工序。
搜索关键词: 光学材料 内部 状态 检查 方法 以及 光学 元件 制造
【主权项】:
一种检查光学材料的内部状态的检查方法,该检查方法包括以下工序:向光学材料照射漫射光,基于透射该光学材料的透射光,来检查所述光学材料的内部状态。
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