[发明专利]一种形成P型重掺杂的方法无效
申请号: | 201010554524.7 | 申请日: | 2010-11-23 |
公开(公告)号: | CN102468381A | 公开(公告)日: | 2012-05-23 |
发明(设计)人: | 孙智江 | 申请(专利权)人: | 孙智江 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
代理公司: | 苏州广正知识产权代理有限公司 32234 | 代理人: | 张利强 |
地址: | 上海黄浦区中*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种形成P型重掺杂的方法,包括以下步骤:步骤①,在LED发光晶体外延片制作步骤中使用外延生长方式生长半导体发光材料;步骤②,在LED发光晶体外延片制作步骤中生成P型结构层;步骤③,停止LED发光晶体外延片制作步骤,进入LED芯片制作步骤;步骤④,在LED制作步骤中,通过注入或是掺杂方式,在所述的P型结构层外表面构成P型重掺杂。在外延生长P型重掺杂之前,停止外延生长,完成外延生长过程。通过注入或是掺杂方式,构成P型重掺杂。由此,通过改变P型重掺杂的生长方式,提高P型重掺杂的激活效率,降低P型GaN的欧姆接触电阻,从而提高LED芯片的发光效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 形成 掺杂 方法 | ||
【主权项】:
一种形成P型重掺杂的方法,其特征在于包括以下步骤:步骤①,在LED发光晶体外延片制作步骤中使用外延生长方式生长半导体发光材料;步骤②,在LED发光晶体外延片制作步骤中生成P型结构层;步骤③,停止LED发光晶体外延片制作步骤,进入LED芯片制作步骤;步骤④,在LED制作步骤中,通过注入或是掺杂方式,在所述的P型结构层外表面构成P型重掺杂。
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