[发明专利]掩膜版制作方法及系统

摘要

本发明实施例公开了一种掩膜版制作方法及系统，该方法包括：a)确定光刻工艺条件；b)收集设计图形的OPC数据；c)从OPC数据中筛选出设计间距小于临界值的OPC图形数据；d)根据筛选出的OPC图形数据创建OPC模型，建立OPC程序；e)根据OPC程序，对筛选出的OPC数据进行OPC运算；f)验证OPC运算后的图形数据的CD与目标CD的差值是否在误差允许范围内，如果否，返回步骤a)、b)、c)或d)，如果是，根据设计图形以及OPC运算后的图形数据制作掩膜版。本发明只对筛选出的设计间距小于临界值的图形数据进行OPC处理，减少了OPC处理的数据量，缩短了OPC运算的时间，进而缩短了掩膜版的制作周期。

主权项

一种掩膜版制作方法，其特征在于，包括：a)确定光刻工艺条件；b)按照设计图形收集所述光刻工艺条件对应的OPC数据；c)从所述OPC数据中筛选出设计图形中的设计间距小于临界值的OPC图形数据，其中，所述临界值为，在设计图形中，使光刻图形CD与掩膜版图形CD间的差值在误差允许范围内的设计间距，并且，设计间距大于该临界值的设计图形的光刻图形CD与掩膜版图形CD间的差值也在误差允许范围内；d)根据筛选出的所述设计间距小于临界值的OPC图形数据创建OPC模型，由所述OPC模型建立OPC程序；e)根据所述OPC程序，对筛选出的所述设计间距小于临界值的OPC图形数据进行OPC运算；f)验证所述OPC运算后的图形数据的CD与目标CD的差值是否在误差允许范围内，如果否，返回步骤a)、b)、c)或d)，如果是，根据所述设计图形以及所述OPC运算后的图形数据制作掩膜版。