[发明专利]光刻设备和用于光刻设备的密封装置无效
| 申请号： | 201010568677.7 | 申请日： | 2010-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN102086937A | 公开（公告）日： | 2011-06-08 |
| 发明（设计）人： | J·马奎因 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | F16J15/40 | 分类号： | F16J15/40;F16J15/18;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻设备和用于光刻设备的密封装置。所述光刻设备包括一设备，所述设备包括：第一体；第二体，所述第二体能够相对于所述第一体移动；密封件，所述密封件被布置在所述第一体和第二体之间，使得第一空间通过所述第一体、所述第二体和所述密封件与第二空间分隔开，其中所述密封件位于离所述第一体一距离处；流体供给装置，被布置以在所述第一体和所述密封件之间产生流体流，用于在所述第一空间和第二空间之间产生非接触密封，以便使得能够实现所述第一体和第二体之间的移动；和控制器，该控制器被配置以在所述第一体和所述第二体彼此相对移动期间控制所述距离。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 用于 密封 装置 | ||
【主权项】：
一种设备，包括：第一体；第二体，所述第二体能够相对于所述第一体移动；密封件，所述密封件被布置在所述第一体和第二体之间，使得第一空间通过所述第一体、所述第二体和所述密封件与第二空间分隔开，其中所述密封件位于离所述第一体一距离处；流体供给装置，被布置以在所述第一体和所述密封件之间产生流体流，用于在所述第一空间和第二空间之间产生非接触密封，以便使得能够实现所述第一体和第二体之间的移动。
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