[发明专利]镀膜件及其制备方法无效
| 申请号： | 201010570266.1 | 申请日： | 2010-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN102485939A | 公开（公告）日： | 2012-06-06 |
| 发明（设计）人： | 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;刘咸柱;李聪 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种镀膜件，其包括基体、形成于基体表面的打底层、形成于打底层表面的梯度膜层及形成于梯度膜层表面的硬质层，该打底层为Ni-Cr合金层，该梯度膜层为Ni-CrC层，该硬质层为Hf-C层。本发明镀膜件的膜系逐层过渡较好，膜层之间的结合力较好且膜层内部没有明显的应力产生，这样在施加外力的情况下，所镀的膜层不会因为内部的应力缺陷导致失效，有效地提高了镀膜件的使用寿命，且使镀膜件具有较高的硬度。此外，本发明还提供一种上述镀膜件的制备方法。 | ||
| 搜索关键词： | 镀膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种镀膜件，其包括基体、形成于基体表面的打底层、形成于打底层表面的梯度膜层及形成于梯度膜层表面的硬质层，其特征在于：该打底层为Ni‑Cr合金层，该梯度膜层为Ni‑CrC层，该硬质层为Hf‑C层。
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