[发明专利]防反射用层合体及其制备方法、以及固化性组合物无效
申请号: | 201010570741.5 | 申请日: | 2010-11-29 |
公开(公告)号: | CN102152560A | 公开(公告)日: | 2011-08-17 |
发明(设计)人: | 川合高弘;漆原英一郎;金森太郎 | 申请(专利权)人: | JSR株式会社 |
主分类号: | B32B27/06 | 分类号: | B32B27/06;B32B9/04;B32B33/00;C09D4/02;C09D7/12 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 左嘉勋;顾晋伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及防反射用层合体及其制备方法、以及固化性组合物。本发明提供可通过一次涂布工序形成低折射率性和耐划伤性优异的固化膜的固化性组合物、或具有该固化膜的防反射用层合体及其制备方法。本发明的防反射用层合体的特征在于:在基材上具有固化性组合物的固化膜,所述固化性组合物含有聚合性化合物和折射率为1.40以下的颗粒,所述聚合性化合物具有选自羟基、羧基、磷酸酯基和磺基中的1种以上的极性基团,全部聚合性化合物1g中的羟基浓度、羧基浓度、磷酸酯基浓度和磺基浓度的合计为0.5mmol/g~15mmol/g,上述颗粒偏在于上述固化膜中与上述基材接触的面相反的面侧。 | ||
搜索关键词: | 反射 合体 及其 制备 方法 以及 固化 组合 | ||
【主权项】:
一种防反射用层合体,其在基材上具有固化膜,所述固化膜含有基质和折射率为1.40以下的颗粒,所述基质具有选自羟基、羧基、磷酸酯基和磺基中的1种以上的极性基团,所述基质1g中的羟基浓度、羧基浓度、磷酸酯基浓度和磺基浓度的合计为0.5mmol/g~15mmol/g;所述颗粒偏在于所述固化膜中与所述基材接触的面相反的面侧。
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