[发明专利]谷胱甘肽分子印迹聚合物及其制备和应用方法无效

专利信息
申请号: 201010572364.9 申请日: 2010-12-03
公开(公告)号: CN102485758A 公开(公告)日: 2012-06-06
发明(设计)人: 辛瑜;杨海麟;夏小乐;张玲;仝艳军;张玉然;王武 申请(专利权)人: 江南大学
主分类号: C08F222/14 分类号: C08F222/14;C08F220/06;C08F220/56;C08F2/44;C08J9/26;C07K1/14
代理公司: 上海智信专利代理有限公司 31002 代理人: 王洁;顾小伟
地址: 214122 江苏省无*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种谷胱甘肽分子印迹聚合物的制备方法,以谷胱甘肽为模板分子,采用用于谷胱甘肽的功能单体,在交联剂和引发剂存在下在保护气体中进行聚合反应得到聚合物后去除聚合物中的谷胱甘肽从而得到谷胱甘肽分子印迹聚合物,较佳地,其具体制备过程为:将谷胱甘肽溶于溶剂中,然后加入功能单体形成模板分子-功能单体共聚物,再加入交联剂和引发剂,在保护气体中进行聚合反应获得聚合物后洗脱去除聚合物中的谷胱甘肽,还提供了由此制备的谷胱甘肽分子印迹聚合物,及分离谷胱甘肽的方法,本发明的谷胱甘肽分子印迹聚合物能够特异选择性分离谷胱甘肽,富集谷胱甘肽,为后续应用提供基础,其制备方法简单方便,适于大规模推广应用。
搜索关键词: 谷胱甘肽 分子 印迹 聚合物 及其 制备 应用 方法
【主权项】:
一种谷胱甘肽分子印迹聚合物的制备方法,其特征在于,以谷胱甘肽为模板分子,采用用于谷胱甘肽的功能单体,在交联剂和引发剂存在下在保护气体中进行聚合反应得到聚合物后去除所述聚合物中的所述谷胱甘肽从而得到所述谷胱甘肽分子印迹聚合物。
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