[发明专利]改善晶圆边缘显影效果的方法无效
| 申请号： | 201010578096.1 | 申请日： | 2010-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN102566328A | 公开（公告）日： | 2012-07-11 |
| 发明（设计）人： | 李健;胡骏 | 申请（专利权）人： | 无锡华润上华科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30;H01L21/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 214028 江苏省无*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种改善晶圆边缘显影效果的方法，其中，包括以下步骤：首先，将晶圆表面形貌和光刻条件参数相关联；其次，借助计算机系统，自动选取和所述表面形貌相匹配的光刻条件；再次，曝光所述晶圆。与现有技术相比，本发明的有益效果是：使晶圆各部分都能得到最佳的瀑光显影效果，消除晶圆边缘或其它局部的边缘缺失。 | ||
| 搜索关键词： | 改善 边缘 显影 效果 方法 | ||
【主权项】：
一种改善晶圆边缘显影效果的方法，其特征在于，包括以下步骤：将晶圆表面形貌和光刻条件参数相关联；晶圆边缘曝光时，计算机系统根据当前位置的晶圆表面形貌自动选取与表面形貌相匹配的光刻条件；曝光所述晶圆。
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