[发明专利]激光图案掩模及其制造方法无效
| 申请号： | 201010599529.1 | 申请日： | 2010-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN102445837A | 公开（公告）日： | 2012-05-09 |
| 发明（设计）人： | 丘善朱;崔竣皓 | 申请（专利权）人： | 乐金显示有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/46 | 分类号： | G03F1/46;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;钟强 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种激光图案掩模及其制造方法，通过在激光图案掩模的表面上涂覆保护膜来防止激光图案掩模被损坏，激光图案掩模被用于通过激光烧蚀一次对母基板上的整个层进行构图。所述激光图案掩模包括基底基板、在基底基板上由不透明金属形成来限定激光光束通过区域的激光防护图案以及形成在包括激光防护图案的基底基板的整个表面上的保护膜。 | ||
| 搜索关键词： | 激光 图案 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种激光图案掩模，包括：基底基板；在基底基板上由不透明金属形成来限定激光光束通过区域的激光防护图案；以及形成在包括激光防护图案的基底基板的整个表面上的保护膜。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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