[发明专利]C7,C10修饰的1-去羟基紫杉醇类似物及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201010600726.0 申请日: 2010-12-23
公开(公告)号: CN102093315A 公开(公告)日: 2011-06-15
发明(设计)人: 靳丹辉;林海霞;崔永梅;余洁;邵军超 申请(专利权)人: 上海大学
主分类号: C07D305/14 分类号: C07D305/14;A61K31/337;A61P35/00
代理公司: 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 代理人: 陆聪明
地址: 200444*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种C7,C10修饰的1-去羟基紫杉醇类似物及其制备方法。该化合物的结构式为:其中R1为C1-C8直链或支链烷基、C3-C6环烷基、苯基、含氮、硫或氧的五元或六元芳香环;R2为C1-C8的直链或支链烷基或C3-C6环烷基。该类似物的结构式如上式,本发明以1-去羟基巴卡亭VI为原料,合成得到目标产物C7,C10修饰的1-去羟基紫杉醇类似物,所得产物具有抗肿瘤的生物活性,在对紫杉醇耐药性上具有一定应用前景。该方法具有选择性好,后处理简单,产率高的特点。
搜索关键词: c7 c10 修饰 羟基 紫杉醇 类似物 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种C7,C10位修饰的1-去羟基紫杉醇类似物,其特征在于该类似物的结构式为:其中R1为C1-C8直链或支链烷基、C3-C6环烷基、苯基、含氮、硫或氧的五元或六元芳香环;R2为C1-C8的直链或支链烷基或C3-C6环烷基。
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