[发明专利]一种金属有机物化学气相沉积设备的载盘支撑无效
申请号: | 201010619354.6 | 申请日: | 2010-12-31 |
公开(公告)号: | CN102534560A | 公开(公告)日: | 2012-07-04 |
发明(设计)人: | 李刚 | 申请(专利权)人: | 上海永胜半导体设备有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 201616*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及金属有机物化学气相沉积(MOCVD)设备中的一种载盘支撑装置。它包括腔体底盘(1)、腔壁(2)、多层载盘支撑(3)、支撑垫块(4)、支撑连接(5)、载盘(6)、加热器(7),特征是多层载盘支撑(3)安装在腔体底盘(1)上,通过放置在多层载盘支撑(3)上部的支撑垫块(4)保证整个支撑面的平面度。多层载盘支撑(3)的每层均支撑受力,降低了对每层支撑的强度(厚度)的要求。工作过程中,腔体内部从常温到1000℃不断来回变化的过程中,厚度较薄的载盘支撑产生的形变也较小,也保证了工作的稳定性和安全性。而多层载盘支撑(3)也起到了隔热作用,使其内侧加热器的热量不容易辐射到腔壁(2)上。 | ||
搜索关键词: | 一种 金属 有机物 化学 沉积 设备 支撑 | ||
【主权项】:
一种金属有机物化学气相沉积设备的载盘支撑,它包括腔体底盘(1)、腔壁(2)、多层载盘支撑(3)、支撑垫块(4)、载盘连接(5)、载盘(6)、加热器(7)。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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