[发明专利]IZAO透明导电膜的制造方法无效
申请号: | 201019164051.7 | 申请日: | 2010-02-02 |
公开(公告)号: | CN102140623A | 公开(公告)日: | 2011-08-03 |
发明(设计)人: | 曾鸿斌 | 申请(专利权)人: | 深圳市海森应用材料有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/08 |
代理公司: | 深圳市睿智专利事务所 44209 | 代理人: | 陈鸿荫;郭文姬 |
地址: | 518108 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及一种IZAO透明导电膜的制造方法,采用双阴极直流磁控同时溅射In2O3靶和ZAO靶,形成锌铝掺杂的IZAO膜;所述ZAO靶是在ZnO中掺杂Al2O3形成的陶瓷靶材,其中ZAO靶中Al2O3掺杂的重量比是2-4%,在双阴极靶溅射时,改变In2O3靶和ZAO靶的直流输入功率以改变IZAO膜的Al2O3掺杂比例。同现有技术相比较,本发明的技术效果在于:解决高低温成膜电阻率相差大的问题,通过使用本发明方法制成的IZAO透明导电膜是非晶结构,改善了导电膜表面平滑度,减小了由于结晶晶界引起的光散射,展宽了光学能隙,改善了蓝光波段的透过率。 | ||
搜索关键词: | izao 透明 导电 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种IZAO透明导电膜的制造方法,其特征在于:采用双阴极直流磁控同时溅射In2O3靶和ZAO靶,形成锌铝掺杂的IZAO膜;所述ZAO靶是在ZnO中掺杂Al2O3形成的陶瓷靶材,其中ZAO靶中Al2O3掺杂的重量比是2‑4%,在双阴极靶溅射时,改变In2O3靶和ZAO靶的直流输入功率以改变IZAO膜的ZAO掺杂比例。
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