[实用新型]用于化学气相淀积反应室的紧固组件无效

专利信息
申请号: 201020180763.6 申请日: 2010-04-29
公开(公告)号: CN201729877U 公开(公告)日: 2011-02-02
发明(设计)人: 朱红霞;张希山;陶永钧;廖夤临;汪少军 申请(专利权)人: 武汉新芯集成电路制造有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: C23C16/00 分类号: C23C16/00
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 屈蘅;李时云
地址: 430205 湖北省*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型属于半导体制造领域。公开了一种用于化学气相淀积反应室的紧固组件,包括若干用于连接反应室周壁和气源箱底板的螺栓,所述螺栓和气源箱底板之间设有一隔离板,所述隔离板上设置有圆周刻度,所述螺栓设有与所述圆周刻度相对应的指针。利用指针转动的圈数和所指刻度来确定每个螺栓的松紧程度,实现每次保养前后气源箱底板与反应室周壁的连接位置保持不变。同时,操作员可直观地通过指针读数来判断螺栓的松动情况并及时调整到预设位置。因而,避免了由于各个螺栓松紧度不同而引起气源箱底板的倾斜及升降,从而防止气源箱底板下方的喷头出现倾斜及升降,有利于提高各个晶片化学气相淀积工艺的稳定性,进而提高产品合格率。
搜索关键词: 用于 化学 气相淀积 反应 紧固 组件
【主权项】:
一种用于化学气相淀积反应室的紧固组件,包括若干用于连接反应室周壁和气源箱底板的螺栓,所述螺栓和气源箱底板之间设有一隔离板,其特征在于:所述隔离板上设置有圆周刻度,所述螺栓设有与所述圆周刻度相对应的指针。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉新芯集成电路制造有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,未经武汉新芯集成电路制造有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201020180763.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top