[实用新型]一种研磨液存储装置及研磨液供应系统有效
申请号: | 201020201117.3 | 申请日: | 2010-05-21 |
公开(公告)号: | CN201677237U | 公开(公告)日: | 2010-12-22 |
发明(设计)人: | 陈威;王怀峰;余文军;曹开玮 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;武汉新芯集成电路制造有限公司 |
主分类号: | B24B57/02 | 分类号: | B24B57/02 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 20120*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型提供一种研磨液存储装置,包括存储器和支撑底座,所述存储器的底座为锥形,所述支撑底座用于支撑放置所述存储器,所述支撑底座与所述存储器的接触面为与所述存储器底座形状相适应的V形截面。本实用新型提供的研磨液存储装置及研磨液供应系统利用锥形的存储器存储和供应研磨液,可使存储器内的研磨液被抽空用尽,存储器底部不会残留研磨液从而形成结晶颗粒,因此可有效避免使研磨产品的表面形成划痕且会使研磨产品的表面残留结晶颗粒,提高产品良率。本实用新型的研磨液存储装置更易于被清洗干净,克服了现有技术的研磨液存储装置中剩余的废液不易清洗干净的缺陷,提高了研磨液供应系统的维护效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 研磨 存储 装置 供应 系统 | ||
【主权项】:
一种研磨液存储装置,其特征在于,包括存储器和支撑底座,所述存储器的底座为锥形,所述支撑底座用于支撑放置所述存储器,所述支撑底座与所述存储器的接触面为与所述存储器底座形状相适应的V形截面。
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