[实用新型]卧式多晶硅还原炉入料射流装置无效
| 申请号： | 201020213167.3 | 申请日： | 2010-06-03 |
| 公开（公告）号： | CN201809175U | 公开（公告）日： | 2011-04-27 |
| 发明（设计）人： | 袁建中 | 申请（专利权）人： | 袁建中 |
| 主分类号： | C01B33/03 | 分类号： | C01B33/03;C30B29/06 |
| 代理公司： | 上海开祺知识产权代理有限公司 31114 | 代理人： | 李兰英;季良赳 |
| 地址： | 上海市徐汇区蒲*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 卧式多晶硅还原炉入料射流装置，包括与原料气进气管相连接的伞塔，与伞塔出口相连接的均孔喷盘，与均孔喷盘出口相连接的角度喷盘，笼罩在角度喷盘喷出方向外侧的风帽。本实用新型卧式多晶硅还原炉入料射流装置，完全适应卧式多晶硅还原炉的使用需要，经过伞塔的原料气，由均孔喷盘和角度喷盘进行分布喷射入炉，实现气流以小气量多管式入炉，确保还原炉内气流网分布均匀、稳定。同时，入炉喷射角度根据还原炉结构参数进行设计，预防倒棒，有效保证沉积速度。 | ||
| 搜索关键词： | 卧式 多晶 还原 炉入料 射流 装置 | ||
【主权项】：
卧式多晶硅还原炉入料射流装置，其特征是：包括与原料气进气管相连接的伞塔，与伞塔出口相连接的均孔喷盘，与均孔喷盘出口相连接的角度喷盘，笼罩在角度喷盘喷出方向外侧的风帽。
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