[实用新型]改进的避免晶圆研磨液沉淀装置有效
| 申请号： | 201020223782.2 | 申请日： | 2010-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN201912901U | 公开（公告）日： | 2011-08-03 |
| 发明（设计）人： | 黄怡文 | 申请（专利权）人： | 宸沅国际股份有限公司 |
| 主分类号： | B01F5/12 | 分类号： | B01F5/12;B01F3/12;B01F15/02 |
| 代理公司： | 天津三元专利商标代理有限责任公司 12203 | 代理人： | 钱凯 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种改进的避免晶圆研磨液沉淀装置，在晶圆研磨原液输送至加其它原料搅拌混成前，特别加设一槽底具有喷流搅拌机制及导引回流管路的储存槽，由该导引回流管路连通储存槽底端及储存槽内顶部，且在晶圆研磨原液稀释搅拌后使晶圆研磨液流经的供应槽，于供应槽底加设抽引装置，且供应槽底端装设一导引回流管路连通回该供应槽内顶部及导引回流管路。本实用新型使整个预定稀释晶圆研磨液调配过程，多处有漩转循环晶圆研磨液搅拌作用，保持均匀度，以避免沉淀。 | ||
| 搜索关键词： | 改进 避免 研磨 沉淀 装置 | ||
【主权项】：
一种改进的避免晶圆研磨液沉淀装置，其特征在于，在晶圆研磨原液输送至加其它原料搅拌混成前，特别加设一槽底具有喷流搅拌机制及导引回流管路的储存槽，由该导引回流管路连通储存槽底端及储存槽内顶部，且在晶圆研磨原液稀释搅拌后使晶圆研磨液流经的供应槽，于供应槽底加设抽引装置，且供应槽底端装设一导引回流管路连通回该供应槽内顶部及导引回流管路。
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