[实用新型]激光陀螺腔体化学抛光装置有效

专利信息
申请号: 201020233839.7 申请日: 2010-06-23
公开(公告)号: CN201895258U 公开(公告)日: 2011-07-13
发明(设计)人: 李敏;于秋平;马辉;李大琪;陈勇 申请(专利权)人: 中国航空工业第六一八研究所
主分类号: B24B29/02 分类号: B24B29/02
代理公司: 中国航空专利中心 11008 代理人: 杜永保
地址: 710065 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 实用新型涉及一种激光陀螺腔体化学抛光装置。所述激光陀螺腔体化学抛光装置包括一底盘[1]、一转轴[2]、压片[3]和若干个激光陀螺腔体[4],其中,所述激光陀螺腔体[4]固定在底盘上[1],所述转轴[2]设置在底盘[1]中央,所述压片套在转轴[2]上,压片[3]靠螺母固定在转轴[2]上,其所指方向激光陀螺腔体[4]上面,并压紧固定激光陀螺腔体[4]的上端面。本实用新型激光陀螺化学抛光装置通过底盘及旋转轴的设计,实现了激光陀螺腔体的多个化学抛光操作,同时借助设备进行旋转可以解放人力。因此结构简单、操作方便。具有较高的精度和具有较大的实际应用价值。
搜索关键词: 激光 陀螺 化学抛光 装置
【主权项】:
一种激光陀螺腔体化学抛光装置,其特征在于:包括一底盘[1]、一转轴[2]、压片[3]和若干个激光陀螺腔体[4],其中,所述激光陀螺腔体[3]固定在底盘上[1],所述转轴[2]设置在底盘[1]中央,所述压片套在转轴[2]上,压片[3]靠螺母固定在转轴[2]上,其所指方向激光陀螺腔体[4]上面,并压紧固定激光陀螺腔体[4]的上端面。
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