[实用新型]用于清洁曝光设备的母版上的图形区的清洁装置有效
| 申请号： | 201020238099.6 | 申请日： | 2010-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN201780452U | 公开（公告）日： | 2011-03-30 |
| 发明（设计）人： | 费悦;田玉民 | 申请（专利权）人： | 四川虹欧显示器件有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 吴贵明 |
| 地址： | 621000 四川省绵阳市*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种用于清洁曝光设备的母版上的图形区的清洁装置，其包括：导轨(5)，所述导轨(5)与母版(3)的长度方向平行地布置在所述母版(3)的侧部；套筒(6)，安装在所述导轨(5)上，并且能够沿所述导轨(5)自由滑动；其中，所述套筒(6)为圆柱形空心套筒，并包括：金属外壳(10)；以及粘性膜层(9)，套设在所述金属外壳(10)外。本清洁装置能够实现大面积全自动除尘，而操作人员只需定期检查并更换清洁装置即可。因此，既提高了曝光图形的质量又节省了人力物力。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 清洁 曝光 设备 母版 图形 装置 | ||
【主权项】：
一种用于清洁曝光设备的母版上的图形区的清洁装置，其特征在于，所述清洁装置包括：导轨(5)，所述导轨(5)与母版(3)的长度方向平行地布置在所述母版(3)的侧部；套筒(6)，安装在所述导轨(5)上，并且能够沿所述导轨(5)自由滑动；其中，所述套筒(6)为圆柱形空心套筒，并包括：金属外壳(10)；以及粘性膜层(9)，套设在所述金属外壳(10)外。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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