[实用新型]防静电光罩有效
| 申请号： | 201020301094.3 | 申请日： | 2010-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN201607608U | 公开（公告）日： | 2010-10-13 |
| 发明（设计）人： | 杜武兵 | 申请（专利权）人： | 深圳市路维电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/08 | 分类号： | G03F1/08 |
| 代理公司： | 深圳市维邦知识产权事务所 44269 | 代理人： | 黄莉 |
| 地址： | 518000 广东省深圳*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种防静电光罩，包括覆盖有金属铬层的苏打玻璃，所述金属铬层蚀刻有光罩图形，绕该光罩边缘的金属铬层表面设置有一放电环，该放电环通过设置在所述金属铬层的静电导引线连接到光罩图形，而该放电环的首尾通过两组相对设置的放电端子对接，每组放电端子由若干以预设的间隔并排设置的放电端子构成。本实用新型可大大节省放静电光罩的防静电设备和成本。 | ||
| 搜索关键词： | 静电 | ||
【主权项】：
一种防静电光罩，包括覆盖有金属铬层的苏打玻璃，所述金属铬层蚀刻有光罩图形，其特征在于：绕该光罩边缘的金属铬层表面设置有一放电环，该放电环通过设置在所述金属铬层的静电导引线连接到光罩图形，而该放电环的首尾通过两组相对设置的放电端子对接，每组放电端子由若干以预设的间隔并排设置的放电端子构成。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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