[实用新型]触摸屏ITO薄膜激光刻蚀设备有效

专利信息
申请号: 201020302494.6 申请日: 2010-10-15
公开(公告)号: CN201760706U 公开(公告)日: 2011-03-16
发明(设计)人: 陈刚;任清荣 申请(专利权)人: 武汉吉事达激光技术有限公司
主分类号: B23K26/36 分类号: B23K26/36;B23K26/42;B23K26/04;B23K26/08;H01L21/302
代理公司: 武汉帅丞知识产权代理有限公司 42220 代理人: 朱必武;程玉轩
地址: 430071 湖北省武汉*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 实用新型提供一种触摸屏ITO薄膜激光刻蚀设备,包括机架、控制系统、显示系统、激光发生器、升降机构和吸附平台,控制系统、显示系统、升降机构和吸附平台都安装在机架上,激光发生器安装在升降机构上,其特征在于:还包括二维振镜头和F-θ透镜组,二维振镜头安装在升降机构的升降架上,F-θ透镜组安装在二维振镜头下部。升降机构包括电动机、蜗轮蜗杆减速机、丝杆运动副、直线导轨运动副和升降架。本实用新型的触摸屏ITO薄膜激光刻蚀设备,对触摸屏ITO薄膜刻蚀速度快,效率高,所刻线宽均匀。
搜索关键词: 触摸屏 ito 薄膜 激光 刻蚀 设备
【主权项】:
触摸屏ITO薄膜激光刻蚀设备,包括机架、控制系统、显示系统、激光发生器、升降机构和吸附平台,控制系统、显示系统、升降机构和吸附平台都安装在机架上,激光发生器安装在升降机构上,其特征在于:还包括二维振镜头和F θ透镜组,二维振镜头安装在升降机构的升降架上,F θ透镜组安装在二维振镜头下部。
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