[实用新型]触摸屏ITO薄膜激光刻蚀设备有效
申请号: | 201020302494.6 | 申请日: | 2010-10-15 |
公开(公告)号: | CN201760706U | 公开(公告)日: | 2011-03-16 |
发明(设计)人: | 陈刚;任清荣 | 申请(专利权)人: | 武汉吉事达激光技术有限公司 |
主分类号: | B23K26/36 | 分类号: | B23K26/36;B23K26/42;B23K26/04;B23K26/08;H01L21/302 |
代理公司: | 武汉帅丞知识产权代理有限公司 42220 | 代理人: | 朱必武;程玉轩 |
地址: | 430071 湖北省武汉*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本实用新型提供一种触摸屏ITO薄膜激光刻蚀设备,包括机架、控制系统、显示系统、激光发生器、升降机构和吸附平台,控制系统、显示系统、升降机构和吸附平台都安装在机架上,激光发生器安装在升降机构上,其特征在于:还包括二维振镜头和F-θ透镜组,二维振镜头安装在升降机构的升降架上,F-θ透镜组安装在二维振镜头下部。升降机构包括电动机、蜗轮蜗杆减速机、丝杆运动副、直线导轨运动副和升降架。本实用新型的触摸屏ITO薄膜激光刻蚀设备,对触摸屏ITO薄膜刻蚀速度快,效率高,所刻线宽均匀。 | ||
搜索关键词: | 触摸屏 ito 薄膜 激光 刻蚀 设备 | ||
【主权项】:
触摸屏ITO薄膜激光刻蚀设备,包括机架、控制系统、显示系统、激光发生器、升降机构和吸附平台,控制系统、显示系统、升降机构和吸附平台都安装在机架上,激光发生器安装在升降机构上,其特征在于:还包括二维振镜头和F θ透镜组,二维振镜头安装在升降机构的升降架上,F θ透镜组安装在二维振镜头下部。
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