[实用新型]铜箔的表面处理系统中的溶液槽装置无效

专利信息
申请号: 201020549848.7 申请日: 2010-09-30
公开(公告)号: CN201793786U 公开(公告)日: 2011-04-13
发明(设计)人: 周晓波;孟社超;周建新;柴云;邵管民;杭海江;贾永良 申请(专利权)人: 灵宝华鑫铜箔有限责任公司
主分类号: C25D7/06 分类号: C25D7/06
代理公司: 郑州联科专利事务所(普通合伙) 41104 代理人: 时立新
地址: 472500 *** 国省代码: 河南;41
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摘要: 实用新型公开了一种铜箔的表面处理系统中的溶液槽装置,包括溶液槽,溶液槽内放置有液下辊,液下辊两边分别设置有第一阳极板和第二阳极板,溶液槽外部上端一端为导电辊,另一端为钢辊,所述溶液槽内放置的液下辊数量为一个。则铜箔在槽体中的运行行程缩短,也就从侧面降低了打折出现的概率;另外,单液下辊的轴承维修成本也降低,且同时降低了故障率,提高了生产效率;并且还改变阳极板放置位置,使其和箔面有一定角度,这样既保证合适的电压,不浪费电能,又在极大程度上消除了结晶划伤,消除M面色差。本实用新型既解决了划伤、色差、打折等多个问题,同时为生产高品质的铜箔提供了保障。
搜索关键词: 铜箔 表面 处理 系统 中的 溶液 装置
【主权项】:
一种铜箔的表面处理系统中的溶液槽装置,包括溶液槽,溶液槽内放置有液下辊,液下辊两边分别设置有第一阳极板和第二阳极板,溶液槽外部上端一端为导电辊,另一端为钢辊,其特征在于:所述溶液槽内放置的液下辊数量为一个。
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