[实用新型]曝光装置有效
| 申请号： | 201020685756.1 | 申请日： | 2010-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN201917775U | 公开（公告）日： | 2011-08-03 |
| 发明（设计）人： | 董云 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100176 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种曝光装置，涉及曝光领域，能够提高曝光工艺流程的速度。一种曝光装置，包括：两个基台和基台位置互换机构，所述基台位置互换机构用于互换两个基台的位置。主要应用于曝光工艺，尤其应用于扫描曝光工艺流程中。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，其特征在于，包括两个基台和基台位置互换机构，所述基台位置互换机构用于互换两个基台的位置。
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