[发明专利]曝光装置以及基板的曝光方法有效
| 申请号： | 201080002387.4 | 申请日： | 2010-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN102203677A | 公开（公告）日： | 2011-09-28 |
| 发明（设计）人： | 池渊宏;户川悟;永井新一郎;桐生恭孝 | 申请（专利权）人： | 日本精工株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027;H01L21/683 |
| 代理公司： | 北京泛诚知识产权代理有限公司 11298 | 代理人： | 陈波;杨本良 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 在工件卡盘(21)的吸附面(22)上具有为分隔开相邻的吸附区域(80a、…、80g)而形成的、可与基板W的背面相抵接的间壁(81a、…、81d，82a、…、82d，83a、…、83d)、和可在各吸附区域(80a、…、80g)与基板W的背面相抵接的多个突起(85)，多个曝光装置主体(2～5)的各工件卡盘(21)的吸附面(22)具有大致相同的外形尺寸，而且各工件卡盘(21)的间壁(81a、…、81d，82a、…、82d，83a、…、83d)在每个曝光装置主体(2、…、5)中形成于不同的位置上。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 以及 方法 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，该曝光装置将多个掩模图案依次曝光转印在基板上，其特征在于，所述曝光装置具备通过照射所述曝光用光而将所述掩模的图案曝光转印在所述基板上的多个曝光装置主体，所述曝光装置主体具有：保持具有所述图案的掩模的掩模保持部、具有吸附保持所述基板的吸附面的基板保持部、以及照射曝光用光的照射部，在所述基板保持部的吸附面上设有：为分隔开所邻接的吸附区域而形成并能够与所述基板的背面相抵接的间壁、和在所述吸附区域能够与所述基板的背面相抵接的多个突起，所述多个曝光装置主体的各基板保持部的吸附面具有大致相同的外形尺寸，并且所述各基板保持部的间壁在每个所述曝光装置主体中形成于不同的位置上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日本精工株式会社，未经日本精工株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201080002387.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：洗涤组合物、洗涤方法和半导体装置的制造方法
- 下一篇：非水电解质锂二次电池
