[发明专利]高分子电解质膜的制造方法有效
申请号: | 201080004701.2 | 申请日: | 2010-01-15 |
公开(公告)号: | CN102282709A | 公开(公告)日: | 2011-12-14 |
发明(设计)人: | 足立真哉;原真弓;川上智教;希代圣幸 | 申请(专利权)人: | 东丽株式会社 |
主分类号: | H01M8/02 | 分类号: | H01M8/02;C08J5/22;H01B13/00;H01M8/10 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 段承恩;田欣 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的高分子电解质膜的制造方法包括以下工序:从离子性基团密度为2mmol/g以上的高分子电解质的聚合溶液中直接通过离心分离来除去缩聚时生成的盐分的一部分,从而得到涂液的工序,将该涂液流延涂布到基材上的工序,除去溶剂的一部分,从而在基材上得到膜状物的工序,以及,使该膜状物与水和/或酸性水溶液接触,来除去缩聚时生成的盐分的工序。本发明提供了即使高离子性基团密度的电解质也可以纯化的电解质膜的制造方法,提供了可以在大于80℃的高温下相对湿度60%以下的低加湿条件下运行的燃料电池用途中使用的电解质膜。 | ||
搜索关键词: | 高分子 电解 质膜 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种高分子电解质膜的制造方法,包括以下工序:从离子性基团密度为2mmol/g以上的高分子电解质的聚合溶液中直接通过离心分离来除去缩聚时生成的盐分的一部分,从而得到涂液的工序,将该涂液流延涂布到基材上的工序,除去溶剂的一部分,从而在基材上得到膜状物的工序,以及,使该膜状物与水和/或酸性水溶液接触,来除去缩聚时生成的盐分的工序。
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