[发明专利]用以减少在集成电路内的静电放电保护的占用面积的方法和装置有效

专利信息
申请号: 201080006080.1 申请日: 2010-01-07
公开(公告)号: CN102301470A 公开(公告)日: 2011-12-28
发明(设计)人: 詹姆士·卡;理查·C·李;何富兴;莫瀚·费克鲁汀 申请(专利权)人: 吉林克斯公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H03K19/003
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;姜精斌
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种输入/输出(I/O)电路(100),其中具有一第一N通道金属氧化半导体(NMOS)场效晶体管(FET)(104),此者是藉一硅化物区块(102)而耦接于该输入脚针(110)。一第一P通道金属氧化半导体(PMOS)FET(106)是经直接地耦接于该输入脚针,其N电井是经电气耦接于一ESD电井偏压电路(124)。一NMOS低电压差分信号(LVDS)驱动器(222)亦经直接地连接于该输入脚针,并且具有多个串接的NMOS FET(224、226)。该LVDS驱动器的第一NMOS FET(224)是经制作于一经电气耦接于接地的第一P分接保护环(308)以及一经耦接于该ESD电井偏压的N电井保护环(312)之内。该LVDS驱动器的第二NMOS FET(226)是经制作于一经电气连接于接地的第二P分接保护环(324)之内。
搜索关键词: 用以 减少 集成电路 静电 放电 保护 占用 面积 方法 装置
【主权项】:
一种具有一输入/输出(I/O)电路的集成电路(IC),其特征在于,包含:一输入脚针;一第一N通道金属氧化半导体(NMOS)场效晶体管(FET),此者具有一第一NMOS源极及一第一NMOS汲极,该汲极并入一将该第一NMOS FET电气耦接至该输入脚针的硅化物区块;一第一P通道金属氧化半导体(PMOS)FET,此者具有一第一PMOS汲极,该汲极是经直接地连接至该输入脚针,一第一PMOS源极,该源极是经电气耦接于一正电压供应,以及一PMOS N电井,此电井是透过一提供一静电放电(ESD)电井偏压的ESD电井偏压电路而电气耦接于该输入脚针;以及一NMOS低电压差分信号(LVDS)驱动器,此者具有一经直接地连接至该输入脚针的第二NMOS FET的一第二汲极,该第二NMOS FET是经制作于一经电气耦接于接地的一第一P分接保护环之内,一N电井保护环,此者是经耦接于环绕该第一P分接保护环的ESD电井偏压,以及该第二NMOS FET的一第二源极,该源极是经电气耦接于一第三NMOS FET的一第三汲极,而该第三NMOS FET是经制作于一经电气耦接于接地并且环绕该第三NMOS FET的第二P分接保护环之内。
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