[发明专利]曝光方法及曝光装置有效
| 申请号： | 201080013999.3 | 申请日： | 2010-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN102365588A | 公开（公告）日： | 2012-02-29 |
| 发明（设计）人： | 梶山康一 | 申请（专利权）人： | 株式会社V技术 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张宝荣 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种曝光方法及曝光装置。在曝光方法中，当一边向箭头A方向输送被曝光体(8)，一边使用光掩模(11)的第一掩模图案组(12)进行的对被曝光体(8)的第一曝光区域(9)的曝光结束时，与被曝光体的输送速度同步地使光掩模(11)移动而从第一掩模图案组(12)切换成第二掩模图案组(13)，其中光掩模(11)通过将与各曝光图案对应的多种掩模图案组沿着被曝光体(8)的输送方向以规定间隔排列而形成，并且，当光掩模(11)的掩模图案组的切换结束时，使该光掩模(11)的移动停止，通过第二掩模图案组(13)来执行对被曝光体(8)的第二曝光区域(10)的曝光，从而在被曝光体(8)的沿输送方向以规定间隔设定的多个曝光区域的每个区域上形成不同的曝光图案(24、25)。由此，提高对同一被曝光体的多种曝光图案的形成效率。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种曝光方法，一边向一个方向输送被曝光体，一边在该被曝光体的沿输送方向以规定间隔设定的多个曝光区域的每个区域形成不同的曝光图案，所述曝光方法的特征在于，进行如下的步骤：当使用光掩模的一掩模图案组进行的对所述被曝光体的一曝光区域的曝光结束时，与所述被曝光体的输送速度同步地移动所述光掩模，从而从所述一掩模图案组切换成另一掩模图案组的步骤，其中，所述光掩模通过将与各所述曝光图案对应的多种掩模图案组沿着所述被曝光体的输送方向以规定间隔排列而形成；当从所述光掩模的所述一掩模图案组向另一掩模图案组的切换结束时，停止该光掩模的移动，通过所述另一掩模图案组来执行对所述被曝光体的下一曝光区域的曝光的步骤。
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