[发明专利]树脂隔体用膜、光接受装置及其制造方法、和MEMS设备及其制造方法无效
| 申请号： | 201080014348.6 | 申请日： | 2010-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN102369101A | 公开（公告）日： | 2012-03-07 |
| 发明（设计）人： | 出岛裕久;川田政和;米山正洋;高桥丰诚;白石史广;佐藤敏宽 | 申请（专利权）人： | 住友电木有限公司 |
| 主分类号： | B32B7/12 | 分类号： | B32B7/12;B81B7/02;B81C3/00;C09J4/02;C09J7/02;C09J133/02;C09J163/10;C09J179/08;C09J201/00;H01L23/10;H01L31/02 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 李新红 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明公开了一种树脂隔体用膜(10)，其由树脂组合物组成的粘合剂层(12)和覆盖粘合剂层(12)表面的覆盖膜(14)构成。在该树脂隔体用膜(10)中，在粘合剂层(12)和覆盖膜(14)之间的粘合强度(C1)和在粘合剂层(12)和硅氧烷树脂之间的粘合强度(D)被设定为满足下列条件：C1＞D。从而，当树脂隔体用膜(10)被切割时，可以减少树脂相对于切割操作台的粘附。 | ||
| 搜索关键词： | 树脂 体用 接受 装置 及其 制造 方法 mems 设备 | ||
【主权项】：
一种树脂隔体用膜，所述膜包含：由树脂组合物制成的粘合剂层；和覆盖所述粘合剂层的表面的覆盖膜，其中所述粘合剂层和所述覆盖膜之间的粘合力C1与在所述粘合剂层和硅氧烷树脂之间的粘合力D满足条件C1＞D。
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