[发明专利]基板清洗方法和基板清洗装置无效
| 申请号： | 201080016330.X | 申请日： | 2010-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN102388335A | 公开（公告）日： | 2012-03-21 |
| 发明（设计）人： | 冈岛俊祐 | 申请（专利权）人： | 夏普株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/13 | 分类号： | G02F1/13;B08B1/04;B24B7/12;B24B7/26;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京市隆安律师事务所 11323 | 代理人： | 权鲜枝 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供能缩短基板表面的异物的除去作业的处理时间并能抑制研磨不均的产生的基板清洗方法。基板清洗方法是通过研磨而清洗基板(10)的基板清洗方法，包含：搬运第1基板(10)和第2基板的工序；利用辊型磨石(20)研磨第1基板(10)的工序；以及利用辊型磨石(20)研磨第2基板的工序，在研磨第1基板(10)的工序中，使辊型磨石(20)在与第1基板(10)的搬运方向(50)垂直的方向(40)沿着辊型磨石(20)的长度方向滑动。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种基板清洗方法，通过研磨而清洗基板，其特征在于，包含：搬运具有第1宽度的第1基板和具有比上述第1宽度大的第2宽度的第2基板的工序；利用具有比上述第1宽度大的长度方向长度的辊型磨石研磨上述第1基板的工序；以及利用上述辊型磨石研磨上述第2基板的工序，在研磨上述第1基板的工序中，使上述辊型磨石在与上述第1基板的搬运方向垂直的方向沿着上述辊型磨石的上述长度方向滑动。
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