[发明专利]流水式清洗方法和流水式清洗装置无效
申请号: | 201080020629.2 | 申请日: | 2010-05-14 |
公开(公告)号: | CN102422350A | 公开(公告)日: | 2012-04-18 |
发明(设计)人: | 坂口龙二;大岛德夫;王志鹏;田中良 | 申请(专利权)人: | 昭和电工株式会社 |
主分类号: | G11B5/84 | 分类号: | G11B5/84;B08B3/12 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 常殿国;段承恩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供高效地除去在基板的表面附着的尘埃等且防止在清洗后该尘埃等在基板的表面上再次附着的流水式清洗方法和流水式清洗装置。该流水式清洗方法,在清洗槽(2)内使清洗液(L)向横向流动,在将被清洗物(W)在该清洗液(L)中浸渍的状态下,在向清洗液(L)施加超声波振动的同时进行被清洗物(W)的清洗,其中通过调整在向清洗槽(2)供给清洗液(L)的多个供给口(3)和从清洗槽(2)排出清洗液(L)的多个排出口(5)中的任一个供给口(3)和/或排出口(5)流动的清洗液(L)的流量,来使清洗槽(2)内的清洗液(L)在层流的状态下流动。 | ||
搜索关键词: | 流水 清洗 方法 装置 | ||
【主权项】:
一种流水式清洗方法,在清洗槽内使清洗液向横向流动,在使被清洗物浸渍在该清洗液中的状态下,一边向清洗液施加超声波振动一边进行被清洗物的清洗,其特征在于:通过调整在向上述清洗槽供给清洗液的多个供给口和从上述清洗槽排出清洗液的多个排出口中的任一个供给口和/或排出口流动的清洗液的流量,来使上述清洗槽内的清洗液在层流的状态下流动。
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