[发明专利]阴图制版可成像元件无效

专利信息
申请号: 201080027088.6 申请日: 2010-05-28
公开(公告)号: CN102804067A 公开(公告)日: 2012-11-28
发明(设计)人: T·陶;E·E·克拉克;J·卡拉门 申请(专利权)人: 伊斯曼柯达公司
主分类号: G03F7/029 分类号: G03F7/029;G03F7/032;G03F7/033;B41C1/10
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 张萍;杨思捷
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 具有可成像层的阴图制版可成像元件,所述可成像层包含可自由基聚合组分;引发剂组合物,其一经暴露于成像辐射,能够产生足以引发可自由基聚合组分聚合的自由基;吸收辐射的化合物;一种或更多种聚合物粘合剂;以及至少5重量%的芯-壳颗粒,其包含疏水性聚合物芯和与该聚合物芯共价结合的亲水性聚合物壳。亲水性聚合物壳具有一种或更多种两性离子官能团。例如通过红外激光可使这些元件成像,以提供平版印刷印版。
搜索关键词: 制版 成像 元件
【主权项】:
阴图制版可成像元件,所述元件包含其上具有可成像层的基材,该可成像层包含:可自由基聚合组分;引发剂组合物,其一经暴露于成像辐射,能够产生足以引发可自由基聚合组分聚合的自由基;吸收辐射的化合物;一种或更多种聚合物粘合剂;以及至少5重量%芯‑壳颗粒,其包含疏水性聚合物芯和与该聚合物芯共价结合的亲水性聚合物壳,所述亲水性聚合物壳包含一种或更多种两性离子官能团。
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