[发明专利]曝光装置及装置制造方法

摘要

本发明使用布置于微动载台(WFS1，WFS2)下面的光栅，通过布置于平台(14A、14B)下方的测量杆(71)具有的多个编码器头、Z头等，在投影光学系统(PL)的正下方及主要对准系统(AL1)的正下方，分别测量曝光中及对准中的晶圆载台(WST1和WST2)的各个位置信息。因此可执行晶圆载台(WST1，WST2)的位置信息的高精度测量。

主权项

一种曝光装置，其经由被第一支撑构件所支撑的光学系统，通过能量光束将物体曝光，所述装置包括：移动体，其保持所述物体，并可沿着指定的二维平面移动；引导面形成构件，其形成所述移动体沿着所述二维平面移动时的引导面；第一驱动系统，其驱动所述移动体；第二支撑构件，其经由所述引导面形成构件，从所述引导面形成构件离开而布置于与所述光学系统相反的一侧，并固定于所述第一支撑构件；及测量系统，其包括第一测量构件，所述第一测量构件用测量光束照射与所述二维平面平行的测量面，并接收来自所述测量面的光，并且所述测量系统依据该第一测量构件的输出获得所述移动体至少在所述二维平面内的位置信息，所述测量面设于所述移动体与所述第二支撑构件中的一个处，所述第一测量构件的至少一部分设于所述移动体与所述第二支撑构件的另一个处。