[发明专利]用于轧件的影响装置的控制方法

摘要

控制装置（3）如此控制影响装置（1），使得该影响装置（1）相应地影响轧件（2）。所述控制装置（3）结合对轧件（2）的影响实时检测至少一个测量参量（F、M、T），所述测量参量（F、M、T）依赖于所述轧件（2）的第一特性的在检测所述测量参量（F、M、T）的时刻的数值。所述控制装置（3）借助于轧件（2）的对所述影响装置（1）中的过程进行描绘的模型（11）来求得相应的模型参量（F’、M’、T’）。所述模型（11）包括基于数学物理的方程式的第一子模型（12），在使用该第一子模型（12）的情况下能够求得所述第一特性的数值。所述模型（11）包括基于数学物理的方程式的第二子模型（13），借助于该第二子模型（13）能够求得所述轧件（2）的第二特性的在施加影响期间的时间上的演变。所述轧件（2）的第一特性的在检测所述测量参量（F、M、T）的时刻的数值依赖于所述轧件（2）的第二特性的时间曲线或者说依赖于该轧件（2）的第二特性的在检测所述测量参量（F、M、T）的时刻的数值并且/或者所述测量参量（F、M、T）除了依赖于所述第一特性的数值的依赖关系，也依赖于所述轧件（2）的第二特性的在检测所述测量参量（F、M、T）的时刻的数值。所述控制装置（3）借助于所述模型（11）来求得所述轧件（2）的第二特性的时间曲线、所述轧件（2）的第一特性的在检测所述测量参量（F、M、T）的时刻的数值并且在使用所述轧件（2）的第二特性的所求得的时间曲线以及所述轧件（2）的第一特性的在检测所述测量参量（F、M、T）的时刻的数值的情况下来求得模型参量（F’、M’、T’）。所述控制装置（3）根据所检测到的测量参量（F、M、T）的偏离所述模型参量（F’、M’、T’）的偏差虽然对所述第二子模型（13）进行适配，但是不对所述第一子模型（12）进行适配或者通过成本函数（K1）的优化不仅对所述第一子模型（12）而且对所述第二子模型（13）进行适配，但是其中除了所述测量参量（F、M、T）的偏离所述模型参量（F’、M’、T’）的偏差，依赖于这种第一子模型（12）的适配的处罚项（K2）也输入到所述成本函数（K）中。

主权项

用于轧件（2）的影响装置（1）的控制方法，‑其中控制装置（3）用控制指令（A）来控制所述影响装置（1），使得所述影响装置（1）根据所述控制指令（A）来影响轧件（2），‑所述控制装置（3）结合通过所述影响装置（1）对轧件（2）产生的影响来实时检测至少一个测量参量（F、M、T），所述测量参量（F、M、T）依赖于所述轧件（2）的第一特性的在检测所述测量参量（F、M、T）的时刻的数值，‑其中所述控制装置（3）借助于轧件（2）的对所述影响装置（1）中的过程进行描绘的模型（11）来求得与所检测到的测量参量（F、M、T）对应的模型参量（F’、M’、T’），‑其中所述模型（11）包括基于数学物理的方程式的第一子模型（12），在使用该第一子模型（12）的情况下能够求得所述轧件（2）的第一特性的在检测所述测量参量（F、M、T）的时刻的数值，‑其中所述模型（11）包括基于数学物理的方程式的第二子模型（13），借助于该第二子模型（13）能够求得所述轧件（2）的第二特性的在施加影响（1）期间的时间上的演变，‑其中所述轧件（2）的第一特性的在检测所述测量参量（F、M、T）的时刻的数值依赖于所述轧件（2）的第二特性的时间曲线或者说依赖于该轧件（2）的第二特性的在检测所述测量参量（F、M、T）的时刻的数值并且/或者所述测量参量（F、M、T）除了依赖于所述第一特性的数值的依赖关系，也依赖于所述轧件（2）的第二特性的在检测所述测量参量（F、M、T）的时刻的数值，‑其中所述控制装置（3）借助于所述模型（11）来求得所述轧件（2）的第二特性的时间曲线、所述轧件（2）的第一特性的在检测所述测量参量（F、M、T）的时刻的数值，并且在使用所述轧件（2）的第二特性的所求得的时间曲线以及所述轧件（2）的第一特性的在检测所述测量参量（F、M、T）的时刻的数值的情况下来求得模型参量（F’、M’、T’），‑其中所述控制装置（3）‑‑要么根据所检测到的测量参量（F、M、T）的偏离所述模型参量（F’、M’、T’）的偏差虽然对所述第二子模型（13）进行适配，但是不对所述第一子模型（12）进行适配，‑要么通过成本函数（K）的优化不仅对所述第一子模型（12）而且对所述第二子模型（13）进行适配，除了所述测量参量（F、M、T）的偏离所述模型参量（F’、M’、T’）的偏差，依赖于这种第一子模型（12）的适配的处罚项（K2）也输入到所述成本函数（K）中。