[发明专利]曝光装置、曝光方法、以及组件制造方法

摘要

本发明的曝光装置，具备在涵盖除了投影光学系统(PL)正下方区域外的晶圆载台(WST1)移动范围的标尺板(21)上，使用晶圆载台(WST1)上搭载的四个读头(601～604)照射测量光束据以测量晶圆载台(WST1)的位置信息的编码器系统。此处，读头(601～604)的配置间隔(A、B)系设定为分别大于标尺板(21)的开口的宽度(ai、bi)。如此，视晶圆载台的位置从四个读头中切换并使用与标尺板对向的三个读头，即能测量晶圆载台的位置信息。

主权项

一种曝光装置，藉由能量束使物体上配置成矩阵状的多个区划区域依序曝光，以于该多个区划区域分别形成图案，该装置包括：移动体，保持物体沿既定平面移动；位置测量系统，具备设于该移动体的多个读头，根据该多个读头中对与该移动体对向配置成与该既定平面略平行、一部分具有开口的测量面照射测量光束并接收来自该测量面的返回光束以测量该移动体在各个测量方向的位置的既定数目的读头的测量结果，求出该移动体的位置信息；以及控制系统，根据以该位置测量系统求出的该位置信息驱动该移动体，并视该移动体的位置将用于算出该移动体位置信息的该既定数目的读头中的至少一个切换为其它读头；该多个读头中，在该既定平面内于第1方向分离的二个读头的分离距离大于在该第1方向的该开口的宽度。