[发明专利]化学气相沉积反应器无效
申请号: | 201080039892.6 | 申请日: | 2010-08-30 |
公开(公告)号: | CN102612571A | 公开(公告)日: | 2012-07-25 |
发明(设计)人: | G.K.斯特劳赫;D.布里恩;M.道尔斯伯格 | 申请(专利权)人: | 艾克斯特朗欧洲公司 |
主分类号: | C23C16/46 | 分类号: | C23C16/46;C23C16/52 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 任宇 |
地址: | 德国黑*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明涉及一种化学气相沉积反应器,该化学气相沉积反应器带有布置在反应器壳体内的可加热的主体(2,3),带有与主体(2,3)间隔的、用于加热所述主体(2,3)的加热装置(4,17),以及带有与主体(2,3)间隔的冷却装置(5,18),该冷却装置这样布置,使得从加热装置(4,17)经由加热装置(4,17)和主体(2,3)之间的间隙向主体(2,3)传递热量并且从主体(2,3)经由主体(2,3)和冷却装置(5,18)之间的间隙向冷却装置(5,18)传递热量。为了可重现地局部影响被加热的工艺腔室壁的表面温度,本发明建议了在冷却/或加热装置(4,5,17,18)之间的间隙中布置调节体(6,19)。在热处理过程中和/或在时间上相继的处理步骤之间,这样地移动调节体(6,19),使得局部影响热传输。 | ||
搜索关键词: | 化学 沉积 反应器 | ||
【主权项】:
一种反应器,尤其是化学气相沉积反应器,该反应器带有布置在反应器壳体内的可加热的主体(2,3),带有与主体(2,3)间隔的用于加热所述主体(2,3)的加热装置(4,17),以及带有与主体(2,3)间隔的冷却装置(5,18),该冷却装置这样布置,使得从加热装置(4,17)经由加热装置(4,17)和主体(2,3)之间的间隙向主体(2,3)传递热量并且从主体(2,3)经由主体(2,3)和冷却装置(5,18)之间的间隙向冷却装置(5,18)传递热量,其特征在于一个或多个可置于冷却/或加热装置(4,5,17,18)之间的间隙中的调节体(6,19),用于局部影响热量输送。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的