[发明专利]干膜光致抗蚀剂有效
| 申请号： | 201080043646.8 | 申请日： | 2010-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN102549499A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 文熙岏;奉东勋;石想勋 | 申请（专利权）人： | 可隆工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/09 | 分类号： | G03F7/09;G03F7/11;G03F7/075 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 黄丽娟;陈英俊 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供干膜光致抗蚀剂，具体而言，本发明的干膜光致抗蚀剂可在去除基膜的状态下实施曝光工艺，从而防止基膜对曝光效果的不利影响，提高分辨率。另外，即使在存在树脂保护层的状态下进行曝光，也不会因树脂保护层降低透明度和显像速度，从而可实现高分辨率。尤其是，本发明的树脂保护层可减少多晶硅等润湿剂(wetting agent)的含量，从而节省成本，降低雾霾(haze)，而且，因适当粘接基膜和树脂保护层，以在去除基膜时不会损伤树脂保护层，从而防止雾霾的降低，不产生显像时间的降低，实现高分辨率。 | ||
| 搜索关键词： | 干膜光致抗蚀剂 | ||
【主权项】：
一种干膜光致抗蚀剂，包括层压的基膜、树脂保护层及感光树脂层，上述树脂保护层包括水溶性高分子及烷氧基乙醇。
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