[发明专利]用于控制涂覆沉积的方法和设备有效
| 申请号： | 201080046136.6 | 申请日： | 2010-09-02 |
| 公开（公告）号： | CN102597316A | 公开（公告）日： | 2012-07-18 |
| 发明（设计）人： | M·拉加拉;J·蒂卡宁 | 申请（专利权）人： | BENEQ有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/52 | 分类号： | C23C16/52;C03C17/00;C23C16/455;C23C4/00;C23C14/52;C23C14/54;B05D1/10;B05D1/02;G01N15/02 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 汪宇伟 |
| 地址： | 芬兰*** | 国省代码： | 芬兰;FI |
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| 摘要： | 用于控制涂覆沉积工艺的方法和设备，其中至少在涂覆沉积工艺的一个阶段，涂覆前体中的至少一种包含气体、蒸气或气溶胶。该方法包括监测超细颗粒和根据该监测调节至少一个工艺参数。所述设备包含用于监测超细颗粒的装置(13)和用于根据该监测调节至少一个工艺参数的装置(14)。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 控制 沉积 方法 设备 | ||
【主权项】：
一种用于控制涂覆沉积工艺的方法，其中至少在涂覆沉积工艺的一个阶段，涂覆前体或反应产物中的至少一种包含气体、蒸气或气溶胶，该方法包括监测超细颗粒和根据该监测调节至少一个工艺参数。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
