[发明专利]平面光波电路以及平面光波电路的制造方法无效
申请号: | 201080058035.0 | 申请日: | 2010-12-15 |
公开(公告)号: | CN102667555A | 公开(公告)日: | 2012-09-12 |
发明(设计)人: | 阵内启光;内藤正彦;村泽敦志 | 申请(专利权)人: | NTT电子股份有限公司 |
主分类号: | G02B6/12 | 分类号: | G02B6/12;G02B6/13 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 高科 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 与本发明有关的平面光波电路具备:包含多个光波导的至少两个干涉仪;以及配置在所述干涉仪中、具有比最大的光波导密度小的光波导密度的所述干涉仪的所述光波导的两侧的虚拟图案。干涉仪(A1)的光波导密度比干涉仪(A2)的光波导密度大。因此,平面光波电路(101)在干涉仪(A1)的光波导(13)的两侧具备虚拟图案(17)。 | ||
搜索关键词: | 平面 光波 电路 以及 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种平面光波电路,其特征在于,具备:包含多个光波导的至少两个干涉仪;以及配置在所述干涉仪中、具有比最大的光波导密度小的光波导密度的所述干涉仪的所述光波导的两侧的虚拟图案。
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