[发明专利]乳胶掩膜用电离辐射线固化型保护液及使用其的乳胶掩膜有效
申请号: | 201080063279.8 | 申请日: | 2010-02-08 |
公开(公告)号: | CN102754025A | 公开(公告)日: | 2012-10-24 |
发明(设计)人: | 根岸朋子;长谷川刚 | 申请(专利权)人: | 木本股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/48 | 分类号: | G03F1/48 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 蒋亭 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种可在短时间内形成保护膜,形成保护膜的乳胶掩膜的粘接性与表面硬度优异的乳胶掩膜用保护液及使用其的乳胶掩膜。乳胶掩膜用电离辐射线性固化型保护液含有(甲基)丙烯酸酯低聚物和/或(甲基)丙烯酸系单体,及可与前述所述低聚物和/或单体共聚的反应性亲水性物质。而且反应性亲水性物质为(甲基)丙烯酸改性的亲水性物质,尤其是(甲基)丙烯酸改性的磷酸酯和/或(甲基)丙烯酸改性的季铵盐。 | ||
搜索关键词: | 乳胶 用电 辐射 固化 保护 使用 | ||
【主权项】:
一种乳胶掩膜用电离辐射线固化型保护液,其特征在于,其是用于在乳胶掩膜上形成保护膜的乳胶掩膜用电离辐射线固化型保护液,其具有如下成分,即包含(甲基)丙烯酸酯低聚物及(甲基)丙烯酸系单体中的至少任一种的第一成分,以及包含可与所述第一成分共聚的反应性亲水性物质的第二成分。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于木本股份有限公司,未经木本股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201080063279.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备