[发明专利]化学气相沉积设备

摘要

在衬底上形成薄膜的过程中，需要一种化学气相沉积设备来提高过程效率并形成高品质的薄膜。为此，根据本发明的化学气相沉积设备包括：多个反应腔，衬底通过闸门进入所述反应腔中并且对层叠在所述反应腔中的衬底支撑件的上表面上的所述衬底进行处理；缓冲腔，连接所述多个反应腔，从所述多个反应腔中的一个中取出衬底，并且使得所述衬底穿过所述缓冲器，以进入所述多个反应腔中的另一个反应腔；加热器，位于所述多个反应腔或所述缓冲腔中；气体供应装置，用于向所述多个反应腔供应处理气体；第一方向传输单元，用于将上面层叠有所述衬底的板从所述反应腔传输到所述缓冲腔或从所述缓冲腔传输到所述反应腔；以及第二方向传输单元，用于将位于所述多个反应腔中的某一闸门前面的所述板或所述衬底传输到所述多个反应腔的另一个闸门前面的另一位置。

主权项

一种化学气相沉积设备，包括：多个反应腔，被配置为通过闸门使衬底进入所述反应腔中并且对装载到所述反应腔中的衬底支撑件的上表面上的所述衬底进行处理；缓冲腔，被配置为与所述多个反应腔耦接并且当所述衬底从所述多个反应腔中的任意一个中被取出，然后被送入所述多个反应腔中的另一个反应腔时，使得所述衬底穿过所述缓冲腔；加热器，设置在所述多个反应腔或所述缓冲腔中；气体供应装置，被配置为向所述多个反应腔供应处理气体；第一方向传输单元，被配置为将上面装载有所述衬底的板从所述反应腔传输到所述缓冲腔或从所述缓冲腔传输到所述反应腔；以及第二方向传输单元，被配置为将放置在所述多个反应腔中的任意一个的闸门前面的所述板或所述衬底传输到所述多个反应腔中的另一个的闸门。