[发明专利]III族氮化物半导体激光器元件的制作方法有效

专利信息
申请号: 201080067313.9 申请日: 2010-12-27
公开(公告)号: CN102934301A 公开(公告)日: 2013-02-13
发明(设计)人: 高木慎平;善积祐介;片山浩二;上野昌纪;池上隆俊 申请(专利权)人: 住友电气工业株式会社
主分类号: H01S5/343 分类号: H01S5/343
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 谢丽娜;关兆辉
地址: 日本大阪*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供一种可提高谐振镜的平坦性且可降低阈值电流的III族氮化物半导体激光器元件的制作方法。使基板产物(SP)的刻划槽(65a)的方向与支撑装置(71)的边缘(71b)的延伸方向一致,将基板产物(SP)设置于支撑装置(71)。以沿边缘(71b)延伸的基准线(X坐标A1、B1)为界将基板产物(SP)分为第1~第3区域(70a、70b、70c)。用支撑面(71a、71c)支撑基板产物(SP)的第1及第2区域(70a、70b),并按压第3区域(70c),从而进行基板产物(SP)的分离,形成另一基板产物(S P1)及激光条(LB1)。在距离支撑面(70a、70c)的边缘(70b、70d)之间的中心线(CNT)SHFT的位置,将刮刀(69)抵压到基板产物。
搜索关键词: iii 氮化物 半导体激光器 元件 制作方法
【主权项】:
一种III族氮化物半导体激光器元件的制作方法,其包括如下步骤:形成具有激光器构造体的基板产物,该激光器构造体含有由六方晶系III族氮化物半导体构成且具有半极性主面的基板以及形成于上述半极性主面上的半导体区域;对上述基板产物的第1面刻划,在上述第1面上形成沿着表示上述六方晶系III族氮化物半导体的a轴方向的基准线延伸的刻划标记;在形成上述刻划标记后,将上述基板产物设置于致断装置,利用上述致断装置的第1及第2支撑部分别支撑上述基板产物的第1及第2区域;以及不支撑位于上述第1及第2区域之间的上述基板产物的第3区域,对准该第3区域的上述刻划标记进行按压,从而进行上述基板产物的分离,形成另一基板产物及激光条,上述基板产物的上述第3区域与上述第1及第2区域相邻,上述按压在上述基板产物的第2面进行,上述第1的支撑部的第1边缘与上述第2支撑部的第2边缘分离,上述基板产物以使上述基准线从规定上述第1边缘与上述第2边缘之间的中心的中心线分离的方式设置于支撑装置上,上述第1面为上述第2面的相反侧的面,上述半导体区域位于上述第1面与上述基板之间,上述激光条具有自上述第1面延伸至上述第2面并通过上述分离而形成的第1及第2端面,上述第1及第2端面构成该III族氮化物半导体激光器元件的激光谐振器,上述基板产物含有设置于上述激光器构造体上的阳极电极及阴极电极,上述半导体区域含有由第1导电型的氮化镓系半导体构成的第1包覆层、由第2导电型的氮化镓系半导体构成的第2包覆层以及设置于上 述第1包覆层与上述第2包覆层之间的活性层,上述第1包覆层、上述第2包覆层及上述活性层沿着上述半极性主面的法线轴排列,上述基板的上述六方晶系III族氮化物半导体的c轴相对于上述半极性主面的法线轴向上述六方晶系III族氮化物半导体的m轴方向以角度ALPHA倾斜,上述第1及第2端面与由上述六方晶系III族氮化物半导体的m轴及上述半极性主面的法线轴规定的m‑n面交叉。
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