[发明专利]膜基板制造方法无效
| 申请号： | 201080069897.3 | 申请日： | 2010-11-09 |
| 公开（公告）号： | CN103189788A | 公开（公告）日： | 2013-07-03 |
| 发明（设计）人： | 平野贵裕 | 申请（专利权）人： | 富士通先端科技株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/1341 | 分类号： | G02F1/1341;G02F1/13;G02F1/1333;G02F1/1339 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 李辉;于英慧 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 膜基板制造方法，包含：密封部形成工序，使在第1基板和第2基板之间密封液晶材料的密封部（3）形成为该密封部（3）的液晶材料注入口部（3e）向外侧突出的形状；以及基板切割工序，将上述第1基板以及上述第2基板切割成与液晶材料注入口部（3e）相对的部分向外侧突出的形状，在上述密封部形成工序中，将密封部（3）的液晶材料注入口部（3e）形成在基板切割工序中的切割线（4）上。 | ||
| 搜索关键词： | 膜基板 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种膜基板制造方法，其特征在于，包含：密封部形成工序，使在第1基板和第2基板之间密封液晶材料的密封部形成为该密封部的液晶材料注入口部向外侧突出的形状；以及基板切割工序，将所述第1基板和所述第2基板切割成与所述液晶材料注入口部相对的部分向外侧突出的形状，在所述密封部形成工序中，将所述密封部的所述液晶材料注入口部形成在所述基板切割工序中的切割线上。
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