[发明专利]一种N型多晶硅电池片及其生产方法无效
申请号: | 201110006552.X | 申请日: | 2011-01-13 |
公开(公告)号: | CN102117851A | 公开(公告)日: | 2011-07-06 |
发明(设计)人: | 吴春林;王象明;谢明宏;王丽萍;池玉娟;陈魏玮 | 申请(专利权)人: | 山东舜亦新能源有限公司 |
主分类号: | H01L31/042 | 分类号: | H01L31/042;H01L31/0288;H01L31/0216;H01L31/18 |
代理公司: | 济南泉城专利商标事务所 37218 | 代理人: | 张贵宾 |
地址: | 274300 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明公开了一种电池片及其生产方法,特别公开了一种N型多晶硅电池片及其生产方法。该N型多晶硅电池片,包括电池片,电池片上端设有银铝电极,下端设有银电极,电池片包括从上到下的SiNx抗反射层、P+射极层、N型硅片、N+射极层及SiNx抗发射层,其特征是:在SiNx抗反射层与P+射极层之间设有一层SiO2钝化层。本发明的有益效果是:N型硅片材料金属杂质比较少,因此N型硅片材料比P型硅片材料有比较长的少数载子寿命和扩散长度,N型多晶硅电池比P型多晶硅电池容易获得比较高的电池转换效率,使用本发明N型多晶硅电池片生产方法生产出来的电池片转换效率提高到17.3%-17.5%。 | ||
搜索关键词: | 一种 多晶 电池 及其 生产 方法 | ||
【主权项】:
一种N型多晶硅电池片,包括电池片,电池片上端设有银铝电极(7),下端设有银电极(2),电池片包括从上到下的SiNx抗反射层(5)、P+射极层(9)、N型硅片(6)、N+射极层(4)及SiNx抗发射层(5),其特征是:在SiNx抗反射层(5)与P+射极层(9)之间设有一层SiO2钝化层(8)。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
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H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的