[发明专利]芯片封装体及其形成方法有效

专利信息
申请号: 201110007938.2 申请日: 2011-01-14
公开(公告)号: CN102130071A 公开(公告)日: 2011-07-20
发明(设计)人: 吴上义;刘沧宇 申请(专利权)人: 精材科技股份有限公司
主分类号: H01L23/12 分类号: H01L23/12;H01L23/48;H01L21/50;H01L21/60;H01L33/00;H01L33/62
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 陈小雯
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明公开一种芯片封装体及其形成方法,该芯片封装体包括承载基底,具有上表面、下表面、第一侧面、及第二侧面;芯片,设置于上表面上,具有第一电极及第二电极;第一沟槽,自上表面朝下表面延伸,且自第一侧面朝承载基底的内部延伸;第一导电层,位于第一沟槽的侧壁上,不与第一侧面共平面且隔有第一最短距离,且与第一电极电连接;第二沟槽,自上表面朝下表面延伸,且自第二侧面朝承载基底的内部延伸;以及第二导电层,位于第二沟槽的侧壁上,不与第二侧面共平面且隔有第二最短距离,且与第二电极电连接。
搜索关键词: 芯片 封装 及其 形成 方法
【主权项】:
一种芯片封装体,包括:承载基底,具有上表面及相反的下表面,及具有第一侧面及第二侧面;芯片,设置于该承载基底的该上表面或该下表面上,该芯片具有第一电极及第二电极;第一沟槽,自该承载基底的该上表面朝该下表面延伸,且自该第一侧面朝该承载基底的内部延伸;第一导电层,位于该第一沟槽的一侧壁上,该第一导电层不与该第一侧面共平面且隔有第一最短距离,且该第一导电层与该第一电极电连接;第二沟槽,自该承载基底的该上表面朝该下表面延伸,且自该第二侧面朝该承载基底的内部延伸;以及第二导电层,位于该第二沟槽的一侧壁上,该第二导电层不与该第二侧面共平面且隔有第二最短距离,且该第二导电层与该第二电极电连接。
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