[发明专利]壳体及其制造方法无效
申请号: | 201110020635.4 | 申请日: | 2011-01-18 |
公开(公告)号: | CN102595834A | 公开(公告)日: | 2012-07-18 |
发明(设计)人: | 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;万自成 | 申请(专利权)人: | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
主分类号: | H05K5/04 | 分类号: | H05K5/04;B32B9/04;B32B15/20;B44C5/04 |
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地址: | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 一种壳体,包括铝或铝合金基体,形成于该铝或铝合金基体表面的色彩层,所述色彩层包括依次形成于铝或铝合金基体表面的铝层和氧化铝层,该色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标值介于75至100之间,a*坐标值介于-1至1之间,b*坐标值介于-1至1之间。本发明还提供了所述壳体的制造方法,包括以下步骤:提供铝或铝合金基体;在该铝或铝合金基体上磁控溅射色彩层;所述色彩层包括依次形成于铝或铝合金基体表面的铝层和氧化铝层;所述壳体具有良好的耐磨性及装饰性外观。 | ||
搜索关键词: | 壳体 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种壳体,包括铝或铝合金基体,形成于该铝或铝合金基体表面的色彩层,其特征在于:所述色彩层包括依次形成于铝或铝合金基体表面的铝层和氧化铝层,所述色彩层呈现白色,其色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标值介于75至100之间,a*坐标值介于‑1至1之间,b*坐标值介于‑1至1之间。
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